Description

Rappel du programme

Session 1 : Microscopies

1. Microscopie électronique au Centre Technologique des Microstructures : prestations proposées et exemples d’applications aux polymères, batteries et émulsions, Xavier Jaurand Centre Technologique des Microstructures, UCBLyon1
2. Microscopie électronique in situ operando et corrélative pour l’étude de la matière : naissance, vie et transformation des nanomatériaux, Ovidiu Ersen, Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg
3. Utilisation des microscopies MEB-EDS et FTIR pour l’étude de matériaux industriels, Vincent Gardel, SERMA – Science et Surface
4. Microscopie élémentaire par laser pour la caractérisation chimique de surface des matériaux industriels, Florian Trichard, Ablatom
5. Présentation du dispositif « France Relance - préservation de l’emploi R&D » Flavie Barthès Prévot, CNRS

Session 2 : RMN

6. Le CCRMN : de la routine aux techniques avancées, Anne Baudouin, Centre commun de RMN, UCBLyon1
7. Le CRMN : RMN à haute résolution et sensibilité avec les champs magnétiques très élevés, Guido Pintacuda, Centre de RMN à Très Hauts Champs de Lyon

Session 3 : Technologies RX

8. Diffusion des rayons X aux petits angles aux laboratoires : applications possibles en industrie, Benjamin Abécassis, Laboratoire de Chimie, ENS Lyon
9. ESRF - The European Synchrotron, Athanasios Papazoglou, ESRF
10 Les avantages de la microtomographie à rayons X synchrotron pour la caractérisation 3D des matériaux, Olivier Guiraud, Novitom

Session 4 : Spectroscopies de masse

11. Caractérisation d'échantillons «poly»disperses par spectrométrie de masse sur la plateforme ILMTech, Clothilde Zerbino Institut Lumière Matière, iLMTech
12. Spectrométrie de masse ultra-haute résolution et couplages multidimensionnels pour la déformulation des échantillons les plus complexes, Alexandra Berlioz-Barbier, IFPEN
13. UHPLC/Triple Quadrupole: un outil indispensable pour l’analyse de trace, Frederic Le-Guyader, Solvay